氣流粉碎機是通過氣流粉碎物料的干法制備超細粉的設(shè)備，所用的氣體可以是空氣、過熱蒸汽或惰性氣體。目前，制備顆粒的方法主要有兩種：一是通過粉碎從大到小制備顆粒，另—種是通過合成從小到大制備顆粒。通過粉碎方法制備的顆粒，目前最細約為0.1µm,合成的方法能夠制備幾納米到幾十微米范圍的顆粒。氣流粉碎機是通過粉碎的方法制備超細顆粒的，它能夠制備亞微米到幾十微米范圍內(nèi)的顆粒，主要制備0.5-20µm范圍內(nèi)的超細顆粒材料，它是目前被廣泛應(yīng)用的干法制備超細粉的設(shè)備。與其他粉碎設(shè)備相比，它具有如下特點：
①粒度細，最細可以達到0.2µm，一般為0.5-20µm，并可以調(diào)節(jié)；
②粒度分布窄，可以滿足窄粒度分布產(chǎn)品粉的要求，如磨料、激光打印粉、復(fù)印粉、釹鐵硼磁粉和鋰電池粉等；
③純度高；
④可以粉碎莫氏硬度為1—10的材料；
⑤加工溫度低(小于氣流溫度)，材料破碎時的應(yīng)變率高，可粉碎低熔點、熱敏性和生物材料等材料；
⑥能耗較大，生產(chǎn)成本較高。
本文作者：常宏藥機
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